Semiconductor
MPW Solution
SEMS의 특징은 국내 대기업 반도체 회사를 포함한 여타 회사에서 제공 받을 수 없는 Sample Chip 제작 서비스를 받을 수 있는 점 입니다. [Full-Custom/Standard Cell/Customer Tooling(Wafer 상태)]. SEMS는 CMOS 표준 공정뿐 아니라 Bipolar의 NPN Tr. buried channel CCDs, GaAs, SiGe, RF 공정도 함께 제공하여 여러 가지 Package Type이 제공됩니다.
셀로코(주)는 MOSIS의 한국 공식 대리점으로 MOSIS의 모든 제품을 한국내에 공급하고 있습니다.
SEMS의 장점
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소량의 Prototype 칩을 경제적인 가격으로 제작(MPW : Multi Projet Wafer)
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Full-Custom, Standard Cell, Customer Tooling(Wafer)
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소량에서 Midium(500 ~ 2000 dies, etc) 까지 제작 가능
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Dedicated Run(COT :Customer Owned Tooling) & Taxi Run 가능
=> Run Schedule에 상관없이 사용자 일정에 맞춰 언제라도 제작 가능
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Mixed Signal(Analog와 Digital)로 설계된 블록의 검증
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SiGe 공정을 이용한 초고주파 회로 설계
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다양한 Standard Cell/IP 제공(ARM, Virage Logic, Aragio)
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1달에 한 번 Run Schedule로 빠른 진행 및 빠른 납기 보장
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다양한 Package 지원(Plastic, Ceramic, FlipChip, QFP, PGA, MLF, QFN...)
중요 Application 분야
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CMOS Analog, Digital
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CMOS RF
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Image IC
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CCD 이용 Display Chips
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MEMS Device
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SiGe 공정 및 Device
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High/Low Voltage, Low Power
SEMS의 대상
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기업체, 연구소, 대학교에서 저렴하고 빠르게 소량의 Sample Chip 제작를 원하는 분.
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연구 개발용으로 새로운 기능·성능의 회로, 저전력 회로, 고속 회로등을 설계·제작
하고자 하는 분. -
국내 주요 Customer
- ETRI, KETI, KERI, KRISS, KARI, 삼성, LG, Fables업체, 중소기업 등등
- 서울대, KAIST, GIST, 연세대, 서강대, 인하대, 고려대, 한양대, 경희대, 포항공대, 광운대, 이화여대, UNIST 등등
SEMS Products
Globalfoundries
Globalfoundries featured processes:
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CMOS: 12 nm, 22 nm, 28 nm, 40 nm, 55 nm, 65 nm
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SiGe: 90 nm(9HP), 0.13 µm(8HP), 0.13 µm(8XP), 0.13 µm(8WL), 0.13 µm(8SW), 0.18 µm(7WL)
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SOI: 45RFSOI
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Silicon Photonics: 9WG.
TSMC
TSMC featured processes:
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12 nm, 16 nm, 22 nm, 28 nm, 40 / 45 nm, 65 nm, 130 nm, 180 nm, 250 nm



